型号：WD-TSC280TD
产品特点：1. 7寸触屏+进口电机和PLC控制，操作方便，质量稳定；2. 整机采用镜面不锈钢外壳，标准半导体洁净室装配，环保且用料扎实、机身重量更重、 电机功率更大、有效保障运行过程中平稳几乎无震动3. 吸盘平整度精细加工平磨，吸盘表面平坦
型号：WD-PB2004EN
PB-EN 系列内校分析电子天平，采用高精度电磁力平衡传感器，全自动内部校准，使得测量结果精确性更高，响应速度更快，故障更少。● 一键校准，可选自动内校时间● 采用LCD液晶显示屏(白色背光，黑色字体)● 称量快，称量速度比一般天平快几倍，
型号：WD-PB2004E
PB-E 系列外校分析电子天平，采用高精度电磁力平衡传感器，全自动内部校准，使得测量结果精确性更高，响应速度更快，故障更少。● 采用LCD液晶显示屏(白色背光，黑色字体)● 称量快，称量速度比一般天平快几倍，而且可以调速● 操作简单易学，单
型号：WD-VFE10-P
威德手套箱专用闪蒸成膜仪WD-VFE10-P设备体积小巧，可通过手套箱大过渡舱进出手套箱。设备真空腔体采用304不锈钢，上盖铝氧化处理，配备Φ60mm观察窗，可观察成膜过程；适配100*100mm以内基片，最大可放置厚度15mm样品。仪器采
型号：WD-USC225H
产品特点：1、高功率：采用进口高效能超声波换能器，对比同等设备安装更多的换能器，清洗力度更强劲，超声功率密度高，清洁效果更佳2、自动扫频功能，分析物体数据误差大大降低，对清洗物件效率提升，清洗效果更彻底3、脱气功能，抽出液体的空气防止清洗物
型号：WD-PLM500
一、概述威德WD-PLM500系列等离子清洗机是一款高端模块化表面处理设备，支持腔体、等离子体源、电源及真空泵等核心部件的灵活选配，为用户提供高度定制化的工艺解决方案。该设备可适配不同材料特性与处理要求，广泛应用于从常规清洗到先进材料研究与
型号：HS8
HS8烤胶机采用新颖的数字式加触摸屏面板，精准的控制热板表面温度；坚固耐腐蚀的铝合金面板，表面阳极氧化处理，保障均匀性的同时外观更精美。独立的防过热电路设计，确保实验安全。是微纳加工方向的**选择。产品特点：硬质阳极氧化铝耐腐蚀加热面板7寸
型号：WD-VFE30C-P
产品优势：威德低温闪蒸优势：显著拓宽工艺窗口：通过精确的低温控制显著延缓钙钛矿成核速度，为后续处理步骤提供了更宽裕、更可控的时间窗口，提升工艺容错率。提升薄膜结晶质量：低温环境抑制了过快成核，使中间相得以充分生长并促进溶质均匀扩散，从而形成
型号：WD-TSD150D
威德WD-TSD150D桌上型显影机主要用于将曝光后的光刻胶进行显影处理，以将光刻胶上的图案显现出来，适用于6寸晶圆，仪器本体为镜面不锈钢板,腔体材质为PTFE，耐腐蚀易维护。配备三路管路(显影液、水、气)，同时可选配显影液温度控制精确控制- 型号：WD-PB1204EN
PB-EN 系列内校分析电子天平，采用高精度电磁力平衡传感器，全自动内部校准，使得测量结果精确性更高，响应速度更快，故障更少。● 一键校准，可选自动内校时间● 采用LCD液晶显示屏(白色背光，黑色字体)● 称量快，称量速度比一般天平快几倍， 
型号：WD-LEM1010
WD-LEM1010桌面式小型导电玻璃激光刻蚀机采用固体激光器，激光波长1064nm，适合对导电玻璃、薄膜进行精细激光刻蚀；采用威德自主研发的控制软件、直接导入CAD 数据进行激光刻蚀，操作简单，方便快捷；采用独特除尘系统设计，能保证玻璃、
型号：WD-PB2004T
功能：★ 全自动内部校准★ 5寸触摸屏★ 一键触发内校/全自动时间触发内校★ 电磁力传感器★ 铸铝外壳/超大空间防风罩★ 全量程去皮/计数/密度/百分比称重★ 单位转换(g/mg/ct/oz)...★ 下挂称重★ 灵敏度/速度可调★ 过载报- 型号：WD-PB2204EN
PB-EN 系列内校分析电子天平，采用高精度电磁力平衡传感器，全自动内部校准，使得测量结果精确性更高，响应速度更快，故障更少。● 一键校准，可选自动内校时间● 采用LCD液晶显示屏(白色背光，黑色字体)● 称量快，称量速度比一般天平快几倍， 
型号：WD-VFE30-P
原理：利用瞬间的减压环境，使溶液迅速挥发，溶质在基底上快速沉积并形成均匀、高质量的薄膜。这种成膜方式具有诸多优势，例如能够精确控制膜的厚度、粗糙度和结晶度，适用于多种材料体系，包括有机小分子、高分子聚合物、金属有机化合物以及生物大分子等。优- 型号：WD-VFE20-P
原理：利用瞬间的减压环境，使溶液迅速挥发，溶质在基底上快速沉积并形成均匀、高质量的薄膜。这种成膜方式具有诸多优势，例如能够精确控制膜的厚度、粗糙度和结晶度，适用于多种材料体系，包括有机小分子、高分子聚合物、金属有机化合物以及生物大分子等。优