型号:surpass 品牌:超迈光电 产地:成都 本设备在成都光学镀膜机产业链发达基础上,在核心部件、控制系统和结构设计上吸收国际一流产品技术精髓,开发出surpass系列产品。本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜: 电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑 |
型号:Research-dmj-8 品牌:超迈光电 产地:成都 “近距红外蒸发真空镀膜机”正式推向市场,探索薄膜太阳能电池,如CdTe、硫化物和钙钛矿结构太阳能电池的重要手段,也用于有机柔性薄膜制备,为公司专利产品“一种近距红外热蒸发真空镀膜机”,专利号:CN201920208976.6,接受桌面式和一 |
型号:surpass-cm-dmj 品牌:超迈光电 产地:成都 电阻电子束蒸发设备,本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜, 电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶(树脂)件上镀制增透膜和截止膜等各种膜系镀膜。为满足广大用户的不同需求,我公司可接受多种形式的真空镀膜机的 |
型号:CM-dmj-501 品牌:超迈光电 产地:成都 离子注入与多靶共溅射镀膜设备,可满足合金膜、单层膜、多层膜、导电膜、非导电膜和反应溅射的需要,特别适合于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、二维材料、超硬薄膜、固体润滑薄膜、 自洁净薄膜、等领域前沿研究,同时具备磁控溅射、离子注入和磁过滤电 |
型号:IBE350 品牌:超迈光电 产地:成都 刻蚀设备在半导体行业中占据着至关重要的地位,可以实现纳米级的精密刻蚀。对复杂微结构的器件加工,微电子器件的制造提供重要支持,在芯片领域发挥着关键作用。设备尺寸:1200*1500*1800mm。极限真空:优于≤8.0×10-5Pa。样品 |
型号:Research-3 品牌:超迈光电 产地:成都 Research系列真空热处理炉满足客户特定需求,用于功能材料钎焊、膜层制备、真空退火、真空回火、真空热处理、晶界扩散、其他有机材料热处理制程,设备采用红外辐射加热,良好的人机界面和无油分子泵组,提供稳定、高效和优良耐久性能的低成本钎焊设备 |
参考价格:460000 型号:Research-11 品牌:超迈光电 该设备可选配电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统,过流部件均采用SUS304制造,真空系统后置,标准配置分子泵系统,标配工业级人机界面和西门子PLC系统,手动和自动模式自由切换,能够满足工业客户小批量生产和科研院所客户科研实验的需求。该系列 |
参考价格:150000 型号:Research 品牌:超迈光电 Research-电子束蒸发镀膜设备该设备为电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统,同时兼容IBE等离子刻蚀和在线辅助镀膜,过流部件均采用SUS304制造,真空系统后置,标准配置分子泵系统,标配工业级人机界面和西门子PLC系统,手动和自动模式 |
型号:CMVAC 品牌:超迈光电 本设备主要用于半导体刻蚀,能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能,使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀,并形成可从衬底上移除的挥发性副产品,通过真空系统排出,特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。尺寸: |