型号：surpass
品牌：超迈光电
产地：成都
本设备在成都光学镀膜机产业链发达基础上，在核心部件、控制系统和结构设计上吸收国际一流产品技术精髓，开发出surpass系列产品。本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜: 电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑
型号：Research-dmj-8
品牌：超迈光电
产地：成都
“近距红外蒸发真空镀膜机”正式推向市场，探索薄膜太阳能电池，如CdTe、硫化物和钙钛矿结构太阳能电池的重要手段，也用于有机柔性薄膜制备，为公司专利产品“一种近距红外热蒸发真空镀膜机”，专利号：CN201920208976.6，接受桌面式和一
型号：surpass-cm-dmj
品牌：超迈光电
产地：成都
电阻电子束蒸发设备，本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜， 电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶（树脂）件上镀制增透膜和截止膜等各种膜系镀膜。为满足广大用户的不同需求，我公司可接受多种形式的真空镀膜机的
型号：CM-dmj-501
品牌：超迈光电
产地：成都
离子注入与多靶共溅射镀膜设备，可满足合金膜、单层膜、多层膜、导电膜、非导电膜和反应溅射的需要，特别适合于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、二维材料、超硬薄膜、固体润滑薄膜、 自洁净薄膜、等领域前沿研究，同时具备磁控溅射、离子注入和磁过滤电
型号：IBE350
品牌：超迈光电
产地：成都
刻蚀设备在半导体行业中占据着至关重要的地位，可以实现纳米级的精密刻蚀。对复杂微结构的器件加工，微电子器件的制造提供重要支持，在芯片领域发挥着关键作用。设备尺寸：1200*1500*1800mm。极限真空：优于≤8.0×10-5Pa。样品
型号：Research-3
品牌：超迈光电
产地：成都
Research系列真空热处理炉满足客户特定需求，用于功能材料钎焊、膜层制备、真空退火、真空回火、真空热处理、晶界扩散、其他有机材料热处理制程，设备采用红外辐射加热，良好的人机界面和无油分子泵组，提供稳定、高效和优良耐久性能的低成本钎焊设备
参考价格：460000
型号：Research-11
品牌：超迈光电
该设备可选配电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统，过流部件均采用SUS304制造，真空系统后置，标准配置分子泵系统，标配工业级人机界面和西门子PLC系统，手动和自动模式自由切换，能够满足工业客户小批量生产和科研院所客户科研实验的需求。该系列
参考价格：150000
型号：Research
品牌：超迈光电
Research-电子束蒸发镀膜设备该设备为电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统，同时兼容IBE等离子刻蚀和在线辅助镀膜，过流部件均采用SUS304制造，真空系统后置，标准配置分子泵系统，标配工业级人机界面和西门子PLC系统，手动和自动模式
型号：CMVAC
品牌：超迈光电
本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。尺寸：