高精度膜厚仪|薄膜厚度测量仪|光刻胶厚度测厚仪
常见应用
| 半导体膜层 | 液晶显示器 |
| 光刻胶 | OLED |
| 加工膜层 | 玻璃厚度 |
| 介电层 | ITO和TCOs |
| 光学镀层 | 生物医学 |
| 硬涂层 | 聚对二甲苯 |
| 抗反射层 | 医疗器械 |
产品型号 A3-SR-100
产品尺寸 W270*D217*(H90+H140)测试支架(配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘)
测试方式 可见光,反射
波长范围 380-1050纳米
光源 钨卤素灯(寿命10000小时)
光路和传感器 光纤式(FILBER )+进口光谱仪
入射角 0 度 (垂直入射) (0 DEGREE)
参考光样品 硅片
光斑大小 LIGHT SPOT About 1 mm(标配,可以根据用户要求配置)
样品大小 SAMPLE SIZE 150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘
膜厚测量性能指标(THICKNESS SPECIFICATION):
产品型号 A3-SR-100
厚度测量 1 Thickness 15 nm - 100 um
折射率 1(厚度要求)N 100nm and up
准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%
精度 3 precision 0.1 nm
1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能
2 使用硅片上的二氧化硅测量,实际上材料和待测结构也会影响性能
3 使用硅片上的二氧化硅(500纳米)测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.