Ⅰ. 这一蚀刻剂用来蚀刻硅表面上的沉积氧化物。这些氧化物生长于LPCVD装置。它们和热生长氧化物在很多重要方面极不相同。一方面是它们的蚀刻速度，另一方面是它们的工艺程序。沉积氧化物经常在镀金属的硅基板上用作一个钝化层。Silox Vapox III蚀刻剂设计用来蚀刻镀铝硅板上作为钝化层的沉积氧化物，效果**。这种蚀刻剂液中饱含着铝，从而将其对镀金的基板的浸蚀性降到最低限度。

Ⅱ.  沉积氧化物（Silox Vapox）的蚀刻速率：4000 Å/分，22 °C，

 

Ⅲ. 这一产品中含有：

氟化铵

冰醋酸

铝腐蚀抑制剂

表面活性剂

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