型号：JVJ-200S
产地：上海
设备概述：主要适用于试验负荷低于200000N的各种金属、非金属及复合材料进行力学性能测试和分析研究。具有应力、应变、荷重、位移四种闭环控制方式，可求出最大力、抗拉强度、弯曲强度、压缩强度、弹性模量、断裂延伸率、屈服强度等参数。根据GB及I
型号：SWSL-2100/14
产地：上海
设备主要用途：真空钨丝炉是用钨丝或钨网作发热元件的真空电阻炉，供金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中烧结制品，也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可
型号：MHVD-1000AP
产地：上海
多功能数显显微硬度计采用更多的进口元器件保障设备运行更稳定，测试更精确；功能强大的数据测控系统配合5.6寸工业显示屏提供全面数据用于质量控制，本机操作简单快捷，外观高端大气，是高要求用户的理想选择。主要功能和特点：1、配置日本欧姆龙编码器的
型号：SHLL-1700
产地：上海
1700℃高低温冲击试验炉是用于试验件从1600℃到-60℃的快速转换试验。高低温区采用丝杆自动控制，整个转换过程在较短时间内完成。设备区分为高温区、低温区、过渡区三部分，各区之间?用隔热处理。低温区采二元冷冻系统,降温效果快速,冷却方式为
型号：SKGL-1200-Ⅱ
产地：上海
1200℃双温区开启式管式炉以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构,智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高；内置两个温区，可以营造不同的温度梯度。双层炉壳间配有风冷系统，有效降低炉壳表面温度；结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛。主
型号：SGL-1400-Ⅱ
产地：上海
1400℃双温区精密真空管式炉采用智能化程序温控系统，可控硅控制，控温精度高；高真空级法兰密封，结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛；以优质硅碳棒为加热元件，采用智能化控温系统，可控硅控制，控温精度高；炉膛采用日本技术真空吸附成型的优
型号：SQFL-1400S
产地：上海
1400℃真空气氛搅拌炉集成了温控系统，混气系统，真空系统，内循环水冷系统，升降搅拌系统，磁力密封系统等功能。采用循环水冷密封，搅拌部分可自动升降，转速可调，能通入各种不同的气体，可实现熔体在高温气氛保护下的搅拌熔炼。主要功能和特点：1、可
型号：JVJ-1000YS
产地：上海
设备用途：1000kN（100吨）微机控制电液伺服**试验机JVJ-1000YS，是一种通用性较强的产品，可以满足国家关于金属拉伸试验规定中的各项标准试验，可以求取所测材料的抗拉强度、屈服强度、规定非比例延伸强度、弹性模量等性能指标，可以进
型号：HV-10IS
产地：上海
本套系统是由自动转塔维氏硬度计和硬度测量图像分析软件连接电脑组合而成，可在电脑上实时进行对焦和显示硬度压痕图像，只需通过鼠标和键盘就可完成各种检测要求，大大提高工作效率，是进行实验分析的**解决方案。软件的主要功能和特点：1、我司研发的图像
型号：MHVD-1000IS
产地：上海
本套系统是由双成像多功能自动转塔数显显微硬度计和硬度测量图像分析软件连接电脑组合而成，通过内置成像系统可在电脑上实时进行对焦和显示硬度压痕图像，只需通过鼠标和键盘就可完成各种检测要求，大大提高工作效率，是进行实验分析的**解决方案。软件的主
型号：SZRL
产地：上海
结构介绍：高频感应熔炼炉主要由炉体、炉盖、合金加料器、搅拌系统、感应线圈、同轴电极、真空系统、坩埚、锭模、真空测量系统、水冷系统、控制系统等组成。主要功能和特点：炉体是严格按照国家真空标准设计，炉门的开启、关闭、锁紧操作简单、灵活、安全可靠
型号：SLHL-1000
产地：上海
循环流化床反应炉采用智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高；气体从下而上穿过固体颗粒随意填充状态的料层，当气流速度达到或超过颗粒的临界流化速度时，料层中颗粒呈上下翻腾，在一定的温度和气氛下，充分反应，反应生成的物质，在气体的带动下，进入
型号：SXL-1200C
产地：上海
1200℃超值箱式实验电炉以掺钼电阻丝为加热元件，采用智能化控温系统，可控硅控制，控温精度高；炉膛采用日本技术真空吸附成型的优质氧化铝多晶纤维无机材料；双层炉壳间配有风冷系统，有效保证外壳表面温度。主要功能和特点：1、三面内嵌式电阻丝加热，
型号：SKGL-1200M
产地：上海
1200℃小型开启式管式炉采用智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高；双层壳体结构，设计合理，外形美观，结构紧凑；双层炉壳间配有风冷系统，有效保证外壳表面温度；真空级法兰密封，结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛。主要功能和特点：
型号：SRYL-2000/16
产地：上海
设备主要用途：真空热压烧结炉是将真空/气氛、热压成型、高温烧结结合在一起，适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型，如应用于透明陶瓷、工业陶瓷等金属以及由难熔金属组成的合金材料的真空烧结以及陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结，也可用于粉末