型号:EBI 20 产地:上海 技术参数型号EBI 20-T1EBI 20-TE1EBI 20-TH1订货号1601-0042A1601-0043A1601-0044A传感器位置内置 , NTC外置 , NTC内置 , NTC 和湿度传感器传感器尺寸\55×Φ3mm,线长 |
型号:DO80 产地:上海 DO80是一款专J型便携式数字溶氧仪,背光显示,可同时显示溶解氧和温度,一键校准功能,可设置盐度和气压补偿,Z多可实时存储99 组数据,连接电脑可以实时下载数据,显示记录的Z大和Z小值,标配三米电J线。电池规格:4 x 1.5V AAA 或 |
型号:EVO 35L 产地:上海 Chemtron 氮气发生器提供纯净,安诠,经济的氮气钢瓶及液氮罐替代方案。EVO 系列产品采用 CPSA 变压吸附技术产生氮气,且内置空压机,使用方便,寿命长,适用于 LC/MS,LC/MS/MS,固相萃取等多种应用。科技 , 纯净> |
型号:FOM 330 产地:上海 技术参数型号FOM 330测量范围:油0 % ... 40 % TPM*( 适用油温 +50° C…+200° C)测量精度 ( 油 )± 2 %分辨率 ( 油 )0.5 %测量范围 ( 温度 )+50 ℃ ... +200 ℃测量精度 ( |
型号:GPR-M7 产地:上海 优莱博玻璃压力反应釜由高品质厚壁玻璃加工制造而成,专门应用于带压操作的化学反应试验,如:合成实验,催化实验,以及需要惰性气体保护条件下的各类反应实验。反应容积从 500ml 到 5000ml。玻璃压力反应釜均采用 ACE-Thrend® 玻 |
型号:PPG50L-4 产地:上海 全 新工业反应系统设计理念,装置各单元采用柔性缓冲法兰盘链接方式,可有效避免在设备操作运行过程中破碎风险> 采用卧式冷凝器,一体式蒸馏回流切换阀,低位蒸馏接液槽,高位储液滴液槽等特色设计,有效降低设备的总体高度,使设备的运行稳定> |
型号:HR-1 产地:上海 摇摆加氢反应系统主要用于制药行业中 , 在 4.1bar、80℃以内或常温、常压条件下的气体、液体、固体的合成反应。包括催化加氢反应、不饱和烃还原反应、缩合反应、 加氢催化剂评价及需要剧烈混合的合成反应。传统的氢化或气体加成反应操作使用普通 |
型号:CD-201FS 产地:上海 产品特点:*采用 PID1 和 ACC( Intelligent Cascade Control ) 温度控制技术,进行准确控温;*采用 ATC(Absolute Temperature Calibration)温度校准,可以自行校准,确保 |
型号:TL 7750 产地:上海 > 多功能电位滴定仪可同时满 足电位滴定和容量法卡氏水分滴定的试验要求> 一台 TL 7750 的试验功能相当于一台 TL 7000 的电位滴定功能,加上 TL 7500 KF 的容量法卡式滴定功能> 高清全彩显示屏幕,保 |
型号:EBI 25 产地:上海 技术参数型号EBI 25-T1EBI 25-TEEBI 25-TXEBI 25-TH订货号1340-6200A1340-6201A1340-6204A1340-6202A传感器位置内置 , NTC外置 , NTC外置 , Pt 1000内置 |
型号:HP 500 产地:上海 Chemtron 氮气发生器提供纯净,安诠,经济的氮气钢瓶替代方案N2 TOWER 系列产品使用 CPSA 变压吸附技术产生高纯氮气,氮气流量稳定,纯度高,可以作为 GC/GC-MS 载气(需要带 OVEN 型号)以及 ICP,HPLC-E |
型号:CAT2-35 series 产地:上海 特点介绍标准方法> 每台 CAT 在出厂前已经预先设置了多种标准滴定方法> 每个标准方法可以直接调用,也可以根据实际需求进行编辑> 常用的滴定方法可以标记置顶,便于操作人员快速选用> CAT 模板方法包括:游离二氧化 |
型号:HV9 产地:上海 使用电解纯水制氢技术,利用冷干技术和变压吸附技术对氢气进行纯化,使产出氢气纯度可以达到 99.9995%科技 , 纯净> 具有第三方证书认定的 99.9995-99.9999% 气体纯度> 持续监测氢气浓度(以 O2 计)> |
型号:BR-300 产地:上海 釜盖和釜体优莱博新品高压反应釜由高品质的不锈钢和哈氏合金制造而成,蕴含高科技 的 PTFE 内衬技术既可以低成本解决抗酸碱、强腐蚀性的问题,又可以一釜多用,不会形成交叉污染。釜体釜盖密封方式采用快开式整体紧固夹具,独特 LC KEY 设计, |
型号:NMH2-500 plus 产地:上海 Chemtron 氢气发生器提供纯净,安诠,经济的氢气钢瓶替代方案。NM Plus 系列产品具有性能优异的 CPEM & CCELL 电解池技术和 氢气干燥解决方案,无须苛碱性溶液和再生型干燥剂即可提供持续纯净的氢气,适用于 GC 及 GC |