型号：STRIKE 185 M1
产地：上海
快速、Safe、稳定和易用。 提供可靠的分离，浓缩和纯化解决方案。 Strike 185 配备计时器，程序控制，自动提升等功能。 更多的保护措施，包括：过热设置和保护，断电时自动升起，实时监测蒸汽和冷却水温度等。技术参数型号STRIKE 1
型号：CAT2-1 series
产地：上海
特点介绍标准方法> 每台 CAT 在出厂前已经预先设置了多种标准滴定方法> 每个标准方法可以直接调用，也可以根据实际需求进行编辑> 常用的滴定方法可以标记置顶，便于操作人员快速选用> CAT 模板方法包括：游离二氧化
型号：STRIKE 385 M4
产地：上海
STRIKE 385 旋转蒸发仪继承了上一代产品的特点。大屏幕集成了加热浴槽温度，蒸汽温度，转速，真空度， 时间等参数，同时可设置程序控制。能够与优莱博冷却循环器，真空泵， 真空控制器，溶剂回收系统 等配套使用，为用户提供整套解决方案。&g
型号：HSP240-AR
产地：上海
> LCD 大屏幕显示温度和搅拌速度等参数> 加热台面高温指示灯闪烁提醒，有效预防烫伤> 安诠温度可调，大大提高了加热磁力搅拌器的安诠性> HSP240-AH 和 HSP240-AR 为铝制陶瓷釉台面，加热温度可达
型号：NR-500
产地：上海
该型号中压反应釜特别适用于小量及贵重物料的测试及化学反应，和物料接触部分的材质 可以选择不锈钢，哈氏合金或 PTFE，不锈钢材质还可选择带底阀的机型。根据釜体和 PTFE 内衬规格不同，容积范围为 500～2000ml。NR-500 / N
型号：PPG50L-3
产地：上海
全 新工业反应系统设计理念，装置各单元采用柔性缓冲法兰盘链接方式，可有效避免在设备操作运行过程中破碎风险> 采用卧式冷凝器，一体式蒸馏回流切换阀，低位蒸馏接液槽，高位储液滴液槽等特色设计，有效降低设备的总体高度，使设备的运行稳定>
型号：EBI 20
产地：上海
技术参数型号EBI 20-T1EBI 20-TE1EBI 20-TH1订货号1601-0042A1601-0043A1601-0044A传感器位置内置 , NTC外置 , NTC内置 , NTC 和湿度传感器传感器尺寸\55×Φ3mm，线长
型号：NMH2-100 plus
产地：上海
Chemtron 氢气发生器提供纯净，安诠，经济的氢气钢瓶替代方案。NM Plus 系列产品具有性能优异的 CPEM & CCELL 电解池技术和 氢气干燥解决方案，无须苛碱性溶液和再生型干燥剂即可提供持续纯净的氢气，适用于 GC
型号：WIND-40
产地：上海
WIND 大流量氮气发生器采用中空纤维膜氮气发生技术，并标配了内置空压机，插电即用，并可灵活搬运，灵活安装，一台满足实验室的样品前处理需求。该系列产品适合于氮吹仪，吹扫补集，热脱附，蒸发光散射，固相萃取等仪器的氮气供应。产品特点> 采
型号：SIMDOS 10
产地：上海
简单而又直观的操作 , 校准方便 ; 适用于流体特性 ; 自吸，可干运转 ; 模拟脉冲控制 (RC); 防护等级 IP 65; 占用 空间小连接接口： 4/6 mm 管，卡套式压力接头应用领域：化学、有机合成化学、制药、粘合剂和胶水、聚合物
型号：STRIKE 385 M1
产地：上海
STRIKE 385 旋转蒸发仪继承了上一代产品的特点。大屏幕集成了加热浴槽温度，蒸汽温度，转速，真空度， 时间等参数，同时可设置程序控制。能够与优莱博冷却循环器，真空泵， 真空控制器，溶剂回收系统 等配套使用，为用户提供整套解决方案。&g
型号：SIMDOS 02
产地：上海
防腐蚀材料组合。配备手动、模拟和 RS-232 控制，带有液晶图像显示屏连接接口：连接接口： UNF 1/4"-28应用领域：化学：有机合成化学、制药、粘合剂和胶水：聚合物和聚合物涂层、食品工艺研发、清洁技术参数订货号型号流速 (ml/mi
型号：HRT-1
产地：上海
摇摆加氢反应系统主要用于制药行业中 , 在 4.1bar、80℃以内或常温、常压条件下的气体、液体、固体的合成反应。包括催化加氢反应、不饱和烃还原反应、缩合反应、 加氢催化剂评价及需要剧烈混合的合成反应。传统的氢化或气体加成反应操作使用普通
型号：PR-M5
产地：上海
光反应过程是地球上普遍、重要的能量转换过程之一 , 绿色植物的光合作用 , 动物的视觉 , 涂料与高分子材料的光致变性 , 以及照相、光刻、有机化学反应的光催化等 , 都与光反应过程有关。近年来得到广泛重视的同位素与相似元素的光致分离、光控
型号：NMH2-600 plus
产地：上海
Chemtron 氢气发生器提供纯净，安诠，经济的氢气钢瓶替代方案。NM Plus 系列产品具有性能优异的 CPEM & CCELL 电解池技术和 氢气干燥解决方案，无须苛碱性溶液和再生型干燥剂即可提供持续纯净的氢气，适用于 GC 及 GC