慧诺HN-PTFE8旋涂仪（聚四氟）：PTFE防腐腔体，8英寸基片，耐酸碱抗腐蚀

在微电子、半导体腐蚀工艺、化学薄膜、材料化工、光电科研、新能源材料等领域，酸性、碱性、腐蚀性药液的旋涂成膜对设备的耐腐蚀性和大尺寸基片处理能力提出了双重挑战。慧诺HN-PTFE8旋涂仪（聚四氟）采用聚四氟乙烯防腐腔体，耐酸碱、抗腐蚀，最大支持8英寸基片。搭载7英寸液晶屏，支持中英文切换与多段程序设定，高精度直流无刷电机驱动，转速范围0~12000rpm，匀胶精度±1%。整机一体式结构，配备侧边清洗排胶设计，可选配0~200℃快速加热功能与正反转旋涂模式，是腐蚀性涂层、光刻胶、功能化学薄膜样品制备与工艺研发的理想设备。

一、产品概述

HN-PTFE8旋涂仪采用聚四氟乙烯（PTFE）防腐腔体，耐酸碱、抗化学腐蚀，适配各类腐蚀性药液与化学涂层工艺。与腔体材质相同的上盖搭配恒扭矩铰链，整体密封性好。设备搭载7英寸液晶屏，支持中英文切换与多段程序编辑，直流无刷电机闭环控制，控速精准、匀胶均匀稳定。一体式结构，侧边清洗排胶设计，便于日常维护。

该设备依托PTFE超强耐腐蚀特性，主打各类酸性、碱性、腐蚀性药液旋涂成膜场景，广泛应用于微电子、半导体腐蚀工艺、化学薄膜、材料化工、光电科研、新能源材料等领域，非常适配高校实验室、研发企业开展腐蚀性涂层、光刻胶、功能化学薄膜的样品制备与工艺研发。

二、核心特点

聚四氟乙烯防腐腔体，耐酸碱抗腐蚀
采用聚四氟乙烯（PTFE）材质腔体，耐酸碱、抗化学腐蚀，专为腐蚀性药液与化学涂层工艺设计。与腔体材质相同的上盖，整体防腐性能优异。

最大支持8英寸基片
最大支持8英寸圆形基片，标配50mm、75mm真空托盘。3寸、4寸、异形真空托盘均可定制，灵活满足不同规格样品的旋涂需求。

转速精准，匀胶稳定
直流无刷电机闭环控制，转速范围0~12000rpm，转速分辨率1rpm，速度精度±1rpm，匀胶精度±1%，转速稳定性±1%。加减速度可控可调（100~30000rpm/s），可设置多步程序运行。

7英寸液晶屏，多段编程
搭载7英寸液晶屏，支持中英文切换，5段程序编辑（可定制10段/20段），时间分辨率1s，每步最大旋转时间3600s。单步/多步运行可选，参数预设与存储方便。

一体式结构，侧边排胶
一体式设计，与腔体材质相同上盖+恒扭矩铰链，侧边清洗排胶结构，方便日常清理维护，减少胶液残留对设备的污染。

可选配加热与正反转旋涂
可选配0~200℃气体加热功能，升降温速率10℃/s，支持正反转旋涂模式，适配多种特殊成膜工艺需求。

多重安全保护
配备堵胶保护、开盖停转保护、真空互锁等多重安全装置，确保操作安全可靠。

三、详细规格参数

四、适用行业与典型应用

• 微电子：腐蚀性药液旋涂、特殊光刻胶涂布

• 半导体腐蚀工艺：酸碱体系薄膜制备

• 化学薄膜：功能化学薄膜的旋涂成膜

• 材料化工：腐蚀性涂层研发与制备

• 光电科研：光电材料腐蚀性工艺研究

• 新能源材料：腐蚀性体系的薄膜制备

• 高校实验室：腐蚀性涂层、光刻胶、功能化学薄膜的样品制备与工艺研发

五、产品优势一览

• PTFE防腐腔体：耐酸碱抗腐蚀，专为腐蚀性药液设计

• 8英寸大基片：最大支持8英寸，托盘可定制

• 转速精度±1rpm：精准控制，重复性好

• 0~12000rpm宽转速范围：覆盖多种旋涂工艺需求

• 加速度可调：100~30000rpm/s，灵活适配不同材料

• 7英寸液晶屏+多段编程：操作直观，参数可存

• 一体式设计+侧边排胶：维护方便

• 可选配加热：0~200℃气体加热，正反转旋涂

• 多重安全保护：堵胶保护、开盖停转、真空互锁

• 支持自动注胶：可定制可调式自动注胶系统

六、结语

慧诺HN-PTFE8旋涂仪（聚四氟）凭借聚四氟乙烯防腐腔体、8英寸大基片支持、0~12000rpm转速范围、±1rpm转速精度、7英寸液晶屏多段编程、可选配加热与正反转旋涂、多重安全保护等核心优势，成为微电子、半导体腐蚀工艺、化学薄膜、光电科研等领域腐蚀性旋涂工艺的理想设备。无论您是进行酸碱体系薄膜制备、光刻胶涂布，还是功能化学薄膜研发，这款8英寸聚四氟旋涂仪都能提供高效、稳定、耐腐蚀的涂覆体验。