产地：广东
2英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2主要适用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪、VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪，该磁控溅射头可安装直径为2"的靶材，适用靶材种类较广，如金属靶材（如金、银、铜等材料）、绝缘靶材（
产地：广东
双重克勒姆惰性气体净化设备由2个不锈钢管和2个阀门组成，一个用于去湿，一个用于去氧，在室温操作下可去纯度99.9%的惰性气体中的H2O、O2、CO、CO2、H2、NMHCs和氢气中的H2O、O2、CO2，且可以置于手套箱内。产品型号双重克勒
产地：广东
注射泵使用在MSK-NFES-3C静电纺丝机上。 产品型号注射泵技术参数1、注液速度：0.1-45 mm/min 微调速度：0.01-8 mm/ min2、注射器直径（内径）：0.04-30 mm3、注液泵标配针管容积：20ml4、行程设
产地：广东
陶瓷、玻璃、晶体等脆性材料研究成套设备-中级系列包括了外圆切割机、金刚石线切割机，以及**研发的GPC-100A精密磨抛控制仪，可以准确地掌握制备精度。同时，配备的UNIPOL-1202自动精密研磨抛光机及SKZD-2、SKZD-3滴料器可
型号：1200
产地：广东
1200℃五温区开启式管式炉OTF-1200X-V每个温区分别由独立的温控系统控制，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成四段温度梯度，或形成较长的恒温区域。本机用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验或小批量生产，主要针对电子陶瓷的预烧
型号：1200
产地：广东
1200℃立式真空小管式炉OTF-1200X-S-VT是一款小型开启式立式管式炉，适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。采用PID控制器进行温度调节，可设置30段升降温程序，控温精度为± 1℃。控温仪表操作视频产品型号12
型号：150mm-Se-KTQ-150D
产地：广东
产品详细介绍：Se-KTQ-150D是一款双刮刀的可调制膜器，由于有两个刮刀所以涂覆效果会更加均匀。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙，此工具特别适合实验室制作电池电极，陶瓷膜前期的生瓷带及各种薄膜。产品型号双刮刀微米级可调
型号：800
产地：广东
800℃双温区高压炉OTF-1200X-II-HVHP-80是高温高压管式炉，炉管采用 SS310S镍基合金钢制作而成，两端配有法兰和阀门，专为在105 PSI高压下使用，可在通入氧化或惰性气体的气氛下，处理特殊的化合物。本机采用PID方式
产地：广东
X荧光专用硼酸模具主要用于红、荧光、钙铁、建材、超导、电池等新材料领域。产品型号X荧光专用硼酸模具主要特点可配套各种X荧光光谱仪上使用。技术参数内径尺寸：Ø32mm、Ø40mm（特殊尺寸可定做）操作说明按图1组合好模具；
型号：FTIR-850
产地：广东
FTIR-850是公司经过改进和创新，推出的新款傅里叶变换红外光谱仪，仪器性能显著提高。具有分辨率高、扩展性好、性能稳定、操作简便、使用寿命长、维护成本低等特点，其产品性能及主要技术指标均已达到国际同类产品先进水平。广泛应用于医药、化工、石
产地：广东
金属熔炼封管套件是在真空条件下熔炼各种金属样品的专用设备，主要用于各种金属样品制备，研究领域也可用于金属管封堵焊接。技术参数1.电弧熔炼室:φ200mm×300mm。选用高级不锈钢板表面经过电化学方法处理。2.熔炼样品：
型号：VGB-600-3HD
产地：广东
产品简介：VGB-600-3HD薄膜电池制备系统可在手套箱内进行实验操作，用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该系统配置三个靶枪，一个配套射频电源
型号：UNIPOL-810
产地：广东
UNIPOL-810精密研磨抛光机用于磨抛晶体、金属、陶瓷、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料及密封件等，如光学元件、化合物半导体基片、陶瓷基片、蓝宝石、钒酸钇、铌酸锂、砷化镓。本
型号：1500
产地：广东
1500℃单温区可倾斜旋转管式炉GSL-1500X-OTF-R60是专门为无机混合物在真空或气氛保护环境下均匀地混烧而设计的，其最高温度可达1500℃。控温仪表操作视频产品型号1500℃单温区可倾斜旋转管式炉GSL-1500X-OTF-R6
型号：8XB
产地：广东
8XB正置（明暗场）芯片检查显微镜广泛应用于透明、半透明、不透明物质（如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层）等材料表面的结构、痕迹检测，拥有很好的成像效果。产品型号8XB正置（明暗场）芯片检查显微镜主要特