型号：HM-HLD2
产地：潍坊
氦质谱真空检漏设备是采用质谱学原理、以氦气为示漏气体的高精度无损检漏设备，凭借氦气大气含量低、质荷比特征鲜明的优势，实现超高灵敏度检漏，可精准定位并定量漏点。设备支持真空喷氦、吸枪扫描、背压累积等多种检漏模式，适配真空 / 带压容器、密封组
型号：HM-SM36
产地：潍坊
石墨消化炉，具有消解快速、高效、便捷等优点，适用于食品、制药、农业等行业以及高等院校、科研部门对土壤、饲料等样品在化学分析前的消解处理工作，更适合与凯氏定氮仪配套使用。产品特点使用5寸彩色触摸屏进行仪器操作，配备安卓操作系统，方便快捷。采用
型号：HM-LC
产地：潍坊
感谢您选用LC系列全自动馏程测定仪，该仪器依据国标GB/T 18255-2000、GB/T 7534-2004 GB/T 3146.1-2010、GB/T 18589-2001试验方法设计、制造的。适用于天然汽油(稳定轻烃)、车用汽油、航空
型号：HM-FD
产地：潍坊
品牌：恒美型号：HM-FD★升级款，喷塑钢板外壳设计，坚固耐用，配套成套附件及成品药剂。★微电脑控制，数字化线路、程序化设计，液晶显示，交直流两用，可野外流动测试。★分辨率：0.001，触摸式按键，内置新一代热敏打印机，可打印测试结果。★肥
型号：HM-50Y
产地：潍坊
工业X光机广泛应用于工业产品、电子元器件的内部检测，实验、科研、教学、工程、考古、鉴别等活动，宠物医院、兽医医院、饲养场、动物园，野外作业、抢险救灾、地震救援等现场处置，名贵中草药异物检测，治安反、反恐领域的安检等，是进行无损检测的最理想设
型号：HM-GXY
产地：潍坊
产品简介 ：原位根系图像分析系统是一款土壤根系原位平面多层次图像监测仪，可获取土壤、根系侧面剖面图像，监测土壤中活体根系的生长状态，可获取高分辨率图像用于分析根系的详细结构。利用专业的原位根系分析软件可快速的分析计算获得总根长、平均直径、表
型号：HM-ZS2
产地：潍坊
产品简介： 振实密度测试仪(Tap Density Tester)是一种通过模拟实际工况中的振动条件，精确测定粉末或颗粒材料在振实状态下密度的高精度仪器。其核心功能是评估材料在压实过程中的体积变化，为工业生产、研发和质量控制提供关键数据支持
型号：HM-L2P
产地：潍坊
一、产品简介： 粮食安全快速检测仪采用荧光定量快速检测原理，主要检测粮油谷物饲料中真菌毒素和重金属含量，包括黄曲霉毒素B1、黄曲霉毒素M1、玉米赤霉烯酮、呕吐毒素、伏马毒素等，粮食重金属包括重金属铅和镉等，检测样品涵盖粮食谷物（大米、玉米、
型号：HM-W200
产地：潍坊
一、概述地下水位计是提供一种测量水位精确的方法，通常用于测量井，钻孔及水位管中的水位，特别适合于水电工程中地下水位的观测或土石坝体的坝体浸润线的人工巡检。本仪器即可在施工期间使用，也可作为工程的长期安全监测用。符合土石坝安全监测技术规范。二
型号：HM-KD2A
产地：潍坊
仪器简介：颗粒强度测定仪是一种采用高精度传感器测量技术、具备数字显示功能的新型检测仪器。仪器结构紧凑、体积小巧、操作便捷，适用于圆球状、条状或圆柱状颗粒材料的抗压碎强度测试。应用范围：适用于化肥、药品、催化剂等样品的强度检测。适用标准： 基
型号：HM-500H
产地：潍坊
仪器特点：1、压力、流量自动显示，自动恒压、恒流、氢气流量可根据用量实现全自动调节。2、FV型亚克力过滤器，内有微量氧脱除剂(不需要活化)，氢气纯度更高;仪器内部采用硅橡胶圈(含硫量低)，有效提高气体质量，保证色谱基线平稳。3、储液、电解制
型号：HM-GSGC
产地：潍坊
一、产品简介实验室硅酸根分析仪适用于检测样水中常量硅酸根离子的含量。广泛应用于发电厂、化工化肥、冶金、环保、制药、化纤、半导体等行业，适用于除盐水、蒸汽冷凝水、炉水等水中可溶性硅酸根含量的检测分析;参考《GB/T12149-2017工业循环
型号：HM-QX10
产地：潍坊
简述： 便携式气象仪是我们专门针对农田、草场局部小尺度环境设计的，对与植被和农作物生长密切相关的土壤、水气等环境参数监测的农田小气候站。它主要观测与农业相关的空气温度、空气湿度、光照强度、二氧化碳浓度、露点温度、光合有效辐射、土壤温度、土壤
型号：HM-T4
产地：潍坊
一、产品简介： 配套齐全：该仪器相当于一个小型实验室，无需用户自配附件。适于农业服务部门或农资贩卖商、高教院校、科研院所、合作社、肥料厂商、大种植户测土施肥和鉴别肥料真假及环保检测应用。 检测功能全：测试项目国内外全面，除标配试剂外，其他各
型号：HM-YHS
产地：潍坊
一、产品介绍土壤水质氧化还原电位仪(ORP计)主要用于现场原位测试新鲜或湿润土壤的氧化还原电位，水(介质)氧化还原电位、PH、温度等数据的测量。符合《HJ746-2015土壤氧化还原电位的测定电位法》标准。土壤氧化还原电位(ORP/Eh)作